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真空鍍膜材料與濕式鍍膜材料的區別
用真空鍍膜代替電久工藝,不但能節省大量的膜材和降低能耗,而且還會消除濕法鍍膜中所產生的污染。因此,在國內外已大量使用真空鍍代替電鍍為鋼鐵零件涂覆防腐層和保護膜,冶金工業也用來為鋼板和帶鋼加鍍鋁防護層。 塑料薄膜采用真空鍍的方......
光學鍍膜基本原理
光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損......
光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現
光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃);而較先進的技術,如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜......
光學鍍膜材料有哪些?
材料特點:無色四方晶系粉末,純度高,用其制備光學鍍膜可提高透過率,不出崩點。......
薄薄圓圓的晶振片,來源于多面體石英棒
薄薄圓圓的晶振片,來源于多面體石英棒,先被切成閃閃發光的六面體棒,再經過反復的切割和研磨,石英棒最終被做成一堆薄薄的(厚0.23mm,直徑13.98mm)圓片,每個圓片經切邊,拋光和清洗......
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